UC彩票注册 中科院兰州化物所编著的《功能化离子液体》出版发行

  • 真菌感染是人类健康的主要威胁之一,是我国和全世界范围内临床医学中面临的严重问题。
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  2018-09-19日新闻讯:在植物、动物和细菌中,糖类不仅能作为体内能源和碳骨架的提供者,还作为非常重要的信号分子调控植物的生长发育过程。虽然近年来在动物和酵母中糖揭示了几个糖信号途径,但植物不同于动物和细菌,植物是通过光合作用产生糖类的自营生物,植物体可能通过其它的分子机制来感受糖信号的变化从而调控植物的生长发育。

  进一步的固体核磁、红外等表征明确了催化材料的整体和活性位点结构。这样,该团队就成功获得了催化材料整体结构和活性结构都明确的多相催化材料,为均多相催化材料的融合提供了一种方法。

  该研究结果揭示了Sn-β分子筛上金属活性中心的结构及性质,对于理解并发展高效生物质转化催化剂具有重要意义。同时,该项工作是首次利用1H检测固体NMR技术对沸石分子筛催化剂上低含量金属活性中心进行表征,为类似金属(Ti、Zr)负载沸石分子筛催化剂上活性中心的研究提供了新手段。

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  研究发现,尽管过去32年以来海北站气候呈现暖干化趋势,但草地生产力无显著趋势性变化。同时,草地物种组成却发生明显改变,即深根系的禾草增加、浅根系的莎草减少。这种功能群组成的变化增强了植物群落对深层土壤水分的获取能力,有利于气候变化下生态系统初级生产力稳定。气候变化控制实验进一步证明,增温和干旱处理有利于光合产物向地下分配,但对总初级生产力无显著影响。Meta分析证实了气候变暖条件下物种组成改变在整个高原普遍存在。这些结果表明,青藏高原高寒草地生产力并不是对气候变化极其敏感。而且,高寒草地植物物种多样性在气候变化下生产力维持过程中起着关键作用。如果未来植物多样性丧失,高寒草地对气候变化的缓冲作用降低,会威胁到生态系统的服务功能。

  ECHO处于关闭状态。

  埃瓦尔德球效应是指相干的电子散射波成像在一个球面上的效应。在现有的冷冻电镜成像理论中,将该球面视为一个平面,由此近似带来的分辨率极限称为埃瓦尔德球效应极限。过去提出多种矫正埃瓦尔德球效应的方法,包括欠焦量梯度背投影法(JensenG.Jetal.,2000),抛物面法(LeongP.A.etal.,2010),Side-band法(RussoCetal.,2018)等,它们在模拟数据或信噪比较高的无机材料数据中能较好地矫正埃瓦尔德球效应,但至今在实际的低信噪比冷冻电镜数据中却还没有展现出效果。 在该项研究工作中,研究团队的齐国栋、王强副研究员等人发展了高转速下的1H检测的二维异核相关固体MASNMR技术,通过建立羟基基团与Sn金属核的关联,实现了对Sn-β分子筛催化剂上SnOH活性物种的直接观测(图1)。发现在Sn-β分子筛上除了存在四配位的ClosedSn物种外,还存在两种具有SnOH结构的OpenSn物种,并给出了Open和ClosedSn物种之间的存在可逆转化的直接实验证据(图2)。基于1H/119Sn二维相关谱NMR实验结果,确定了Closed和Open两种Sn物种的具体含量。

  病原菌分泌的效应蛋白在克服植物免疫反应、帮助病菌定殖寄主的过程中发挥重要作用。为了分析大丽轮枝菌效应蛋白的致病功能,微生物所张杰青年课题组和郭惠珊课题组合作,前期已构建了高效精准的大丽轮枝菌基因敲除系统(Wangetal.,2016;Phytopathology)。在此基础上,对大丽轮枝菌基因组编码的数百个分泌效应蛋白开展规模化的突变分析,从中分离了一个大丽轮枝菌的关键致病因子VdSCP41。研究发现VdSCP41从真菌分泌后转运到植物细胞核内,直接靶向植物的重要免疫调控因子CBP60g和SARD1,干扰其转录因子活性从而抑制植物免疫相关基因的诱导,帮助大丽轮枝菌侵染植物(图A和B)。此外,还发现了CBP60g-C端蛋白的显性抑制活性,以及VdSCP41诱导CBP60g在植物细胞核的积累,表明病原菌改造植物免疫靶标为诱饵蛋白从而干扰植物免疫的致病新策略。该研究分离了大丽轮枝菌的关键致病因子VdSCP41,阐明了其操控植物免疫的机理和在大丽轮枝菌致病过程中的功能。目前研究团队正在对其它重要效应蛋白的致病功能进行深入解析。

  由中国科学院西安光学精密机械研究所承担的国家重大科研装备研制项目“高性能条纹相机的研制”顺利通过验收。验收专家组由中国科学院合肥物质科学研究院刘文清院士担任组长。项目顺利通过验收标志着我国具有自主知识产权的高性能条纹相机进入实用化水平。 ”

  该工作为活性位点和结构明确的多相催化材料的精准和可控制备提供了新的研究思路。相关研究成果在线发表在NatureCommun.(2018,9,1465,DOI:10.1038/s41467-018-03834-4)。

  中国科学院大学微电子学院马玲同学成功在极坐标系下建立浸没式光刻中规避显影缺陷的物理模型。通过该模型可有效减小先进光刻工艺中的显影缺陷,帮助缩短显影研发周期,节省研发成本,为确定不同条件下最优工艺参数提供建议。该成果已在国际光刻领域知名期刊JournalofMicro-NanolithographyMEMSandMOEMS发表。

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